日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出新型氖气回收系统 hTGM，面向氟化氩（ArF）准分子激光器。公司称该系统可实现 50% 的氖气回收率，未来调整配置后还有望进一步提升。……
日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出新型氖气回收系统 hTGM，面向氟化氩（ArF）准分子激光器。公司称该系统可实现 50% 的氖气回收率，未来调整配置后还有望进一步提升。……
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